微弧氧化的工艺参数
微弧氧化的工艺参数是指加工件上的外加电压，一般说Zui终电压决定微弧氧化膜的厚度，它是不断升高而达到的，不能一次性加至Zui终电压。微弧氧化膜的基本特性是与待处理材料及其表面状态有关的，也与槽液类型、电解质溶液成、外加电压、电流密度、槽液温度和搅拌等因素有关。其中特别是加在工件上的电压与电流密度对于氧化膜的性能至关重要。微弧氧化过程中有一个很大的优点就是外加电源突然中断时可以直接继续进行氧化，不需要除去工件上的氧化膜，微弧氧化技术优点，也不必更换样品重新处理。
微弧氧化技术特点
（1）大幅度地提高了材料的表面硬度，显微硬度在1000至2000HV，微弧氧化技术原理，高可达3000HV，可与硬质合金相媲美，大大超过热处理后的高碳钢、高合金钢和高速工具钢的硬度；
（2）良好的耐磨损性能；
（3）良好的耐热性及抗腐蚀性。这从根本上克服了铝、镁、钛合金材料在应用中的缺点，因此该技术有广阔的应用前景；
（4）有良好的绝缘性能，绝缘电阻可达100MΩ。
（5）溶液为环保型，符合环保排放要求。
（6）工艺稳定可靠，设备简单。
（7）反应在常温下进行，操作方便，微弧氧化技术的特点，易于掌握。
（8）基体原位生长陶瓷膜，结合牢固，微弧氧化技术，陶瓷膜致密均匀。
微弧氧化技术特点
1、提高材料表面硬度微弧氧化膜层为表面多孔（孔径为几微米）、内部致密的陶瓷层。 膜层硬度高（维氏硬度可由几百至三千左右）膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。
2、微弧氧化技术绝缘性好耐热性高，可承受高温使用，范围根据基材熔点温度 有良好的绝缘性能，绝缘电阻膜阻>100MΩ绝缘耐压>5000V/秒。
微弧氧化技术优点-微弧氧化技术-日照微弧氧化电源由日照微弧技术有限公司提供。微弧氧化技术优点-微弧氧化技术-日照微弧氧化电源是日照微弧技术有限公司（www.rzwhjs.com）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：赵树辉。